Lithographie

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Lithography

Lignes de métal
(largeur < 20 nm)

Lithography 1

Nanoplots de métal Cr/Au
(diamètre < 50 nm)

Lithography 2

Alignement de deux niveaux par lithographie électronique

Système Pioneer

  • Source FEG (cathode chaude à émission de champ)
  • Colonne électronique (100eV à 30 keV)
  • Taille de sonde <2nm
  • Résolution <20nm
  • Platine interférométrique 5cmx5cm (précision <20nm)
  • Ré-alignement <20nm

Aligneur de masques MJB4 (Süss Microtec)

  • Lithographie UV
  • Lumière filtrée 365nm
  • Résolution 0,8µm
  • Taille de wafers jusqu’à 100mm
  • Ré-alignement <1µm

Lithographie sans masques µMLA (Heidelberg)

  • Lithographie UV sans masque
  • Lumière 365nm
  • Résolution 1 µm
  • Taille de wafers jusqu’à 100mm
  • Ré-alignement 1 µm
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